紫外线臭氧清洁器旨在在环境温度和增强模式下从样品表面去除薄层污染物。它基本上是一种使用干法的光敏氧化方法。源低压汞灯产生 UVC 系列光谱，特别是 184.9 和 253.7nm 光谱线充当臭氧的创造者和消灭者，也用于激发有机分子。总体而言，它具有简单易用的设置和程序，可在预清洁后提供最佳效果。无需任何预清洁，它就可以为厚光阻剂、纯碳膜和石英基板提供最佳效果。

安全特性

Holmarc 的紫外线臭氧清洁器配有非常适合的铝制腔室，该腔室封闭并阻挡来自汞源的有害 UVC 辐射。靠近红色标志紧急停止开关按钮的冲洗按钮有助于在鼓风机和附加软管的帮助下从托盘室排出所有剩余的臭氧和放气气体。为避免金属样品表面变黑，我们建议在紫外线臭氧清洁器下短时间使用。

应用

薄膜沉积前的基板清洁，制造需要超清洁表面的时钟和频率控制的石英晶体谐振器，在超高真空中以非零力密封金属，制造护目镜，清洁镜片、镜子、太阳能电池板，去除光刻胶、光掩模、硅片等。