台式摩擦机
摩擦机是为液晶研发实验室开发的。 该系统旨在跟踪聚酰亚胺上的凹槽以定向液晶分子。 凹槽是使用深度为几埃的特殊摩擦布制成的。 基板由真空吸盘固定，为此真空泵被包括并与系统集成。
可编程功能：
基板移动范围
移动速度（基板台）
重复次数/操作持续时间
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产品详情
摩擦机是为液晶研发实验室开发的。 该系统旨在跟踪聚酰亚胺上的凹槽以定向液晶分子。 凹槽是使用深度为几埃的特殊摩擦布制成的。 基板由真空吸盘固定，为此真空泵被包括并与系统集成。 型号：HO-IAD-BTR-02可装载的玻璃基板最大尺寸为200mm直径。 基板与真空吸盘一起被固定在一个旋转台上，因此它可以在±20度的任何所需角度旋转和定位，以适应各种摩擦方向。该系统已开发为一个独立装置，其中主轴的速度和基板的速度可以改变。
可编程特性
● 用于平整基材的倾斜调整。
● 调整高度的垂直平台。
● 真空释放按钮
HO-IAD-BTR-01
| ● 基板支架 | |
| a) 用于基板移动的电动线性平台 | |
| b) 由步进电机驱动 | |
| c) 行程： | 300 毫米 |
| d) 最低速度： | 0.05 毫米/秒 |
| 最大速度： | 6毫米/秒 |
| e) 可移动基板的最大尺寸： | 200 毫米直径 |
| f) 基板固定在可旋转 +/- 45 度的旋转台上 | |
| ● 摩擦轮执行器： | 带速度控制的无刷直流电机 |
| 最大速度： | 3000转 |
| 最低速度： | 0转 |
| ● 液晶屏显示速度 | |
| ● 通过旋钮控制主轴速度 | |
| ● 输入： | 230 伏交流电 |
| ● 系统可在独立模式下使用 |
型号：HO-IAD-BTR-02
规格
基材支架 :
a) 用于基底移动的电动线性平台.
b) 由步进电机驱动。
c) 行程: 300mm
d) 最低速度: 0.5mm / sec，最大速度: 6mm / sec
e) 活动基板最大尺寸 : 100mm x 100mm
f) 基板固定在可+/-45度旋转的旋转台上。
揉搓轮执行器：带速度控制的无刷直流电机
最大速度: 3000rpm
最低速度: 0 rpm
LCD 屏幕上显示速度
通过旋钮改变输入电压来控制主轴速度
输入：230 VAC
系统可在独立模式下使用
